Traduzione per "photoresists" a russo
Frasi di contesto simile
Esempi di traduzione.
(a) photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes;
a) фоторезисты или антибликовые покрытия для процессов фотолитографии;
Development costs of a new photoresist system would be US$700M.
Разработка новой системы фоторезиста обойдется в 700 млн. долл. США.
New photolithography technologies use less photo resist per wafer than older technologies, and the new photoresist formulations contain much lower concentrations of PFOS.
83. Новые технологии фотолитографии позволяют использовать меньшее количество фоторезиста на плате по сравнению со старыми технологиями, и новые составы фоторезиста содержат гораздо более низкие концентрации ПФОС.
a.l. Equipment and materials for plasma etch, chemical vapor deposition (CVD), lithography, mask lithography, masks, and photoresists.
a.1. установки и материалы для плазменного травления, химического осаждения паров (ХОП), литографии, шаблонов для литографии, шаблонов и фоторезистов;
For anti-reflective coatings used in combination with photoresists, ESIA indicates that there is also no alternative available that fulfils the specific technical requirements necessary (ESIA, 2003).
В отношении просветляющих покрытий, используемых в комбинации в фоторезистами, ESIA также указывает на отсутствие заменителей, соответствующих необходимым техническим спецификациям (ESIA, 2003).
The development cost of one completely new photoresists system for the industry has been estimated at US$192M for 193nm resist, US$287M for 157nm, and US$218M for EUV resist.
Затраты на создание одной принципиально новой системы фоторезистов для промышленного применения оцениваются в 192 млн. долл. США для фоторезиста, работающего в диапазоне 193 нм, 287 млн. долл. США для диапазона 157 нм и 218 млн. долл. США для крайнего ультрафиолетового диапазона.
The semiconductor industry in China mainly uses PFOS for photoresists, anti-reflective coating, degluing agent and developing agent amounting annually to 30-40 kilograms.
В производстве полупроводников в Китае ПФОС используется главным образом для производства фоторезистов, просветляющего покрытия, веществ, предотвращающих склеивание, и проявителей, при этом объем использования составляет 3040 кг в год.
.PFOS is used as a photoacid generator (PAG) in a mechanism called chemical amplification that increases the sensitivity of photoresist to allow etching images smaller than wavelength of light. Antireflective Coatings
ПФОС применяется в качестве светочувствительного генератора кислоты (PAG) для так называемого <<химического усиления>>, посредством которого чувствительность фоторезиста повышается до уровня, позволяющего получать путем травления схемы с меньшим размером деталей, чем длина световой волны.
ESIA, JSIA, SIA and SEMI indicate that there are currently no substitutes known that give the same level of critical functionality to cause effective, efficient transformation in leading edge photoresists and which can be used in volume manufacturing.
ESIA, JSIA, SIA и SEMI сообщают об отсутствии на сегодняшний день заменителей, в такой же степени обладающих важнейшей способностью эффективно и экономично вызывать необходимые трансформации в современных фоторезистах и при этом пригодных для крупномасштабного промышленного применения.
How many English words do you know?
Test your English vocabulary size, and measure how many words you know.
Online Test